4.4 特征阵列
特征阵列包括线性阵列、圆周阵列、表格驱动的阵列、草图驱动的阵列和曲线驱动的阵列等。选择【插入】│【阵列/镜向】菜单命令，弹出特征阵列的菜单，如图4-22所示。
图4-22 特征阵列的菜单
4.4.1 特征线性阵列
特征的线性阵列是在一个或者几个方向上生成多个指定的源特征。
1．特征线性阵列的属性设置
单击【特征】工具栏中的
【线性阵列】按钮，或者选择【插入】│【阵列/镜向】│【线性阵列】菜单命令，弹出【线性阵列】属性管理器，如图4-23所示。
图4-23 【线性阵列】属性管理器
（1）【方向1】、【方向2】选项组
● 【阵列方向】：设置阵列方向，可以选择线性边线、直线、轴或者尺寸。
●
【反向】：改变阵列方向。
●
、
【间距】：设置阵列实例之间的间距。
●
【实例数】：设置阵列实例之间的数量。
● 【只阵列源】：只使用源特征而不复制【方向1】选项组的阵列实例在【方向2】选项组中生成的线性阵列。
（2）【特征和面】选项组
【要阵列的特征】：可以使用所选择的特征作为源特征以生成线性阵列。
【要阵列的面】：可以使用构成源特征的面生成阵列。在图形区域选择源特征的所有面，这对于只输入构成特征的面而不是特征本身的模型很有用。
（3）【实体】选项组
可以使用在多实体零件中选择的实体生成线性阵列。
（4）【可跳过的实例】选项组
可以在生成线性阵列时跳过在图形区域选择的阵列实例。
（5）【特征范围】选项组
包括所有实体、所选实体，幵有自动选择单选框。
（6）【选项】选项组
● 【随形变化】：允许重复时更改阵列。
● 【几何体阵列】：只使用特征的几何体生成线性阵列，而不阵列和求解特征的每个实例。
● 【延伸视象属性】：将SolidWorks的颜色、纹理和装饰螺纹数据延伸到所有阵列实例。
2．生成特征线性阵列的操作方法
（1）选择要进行阵列的特征。
（2）单击【特征】工具栏中的
【线性阵列】按钮，或者选择【插入】│【阵列/镜向】│【线性阵列】菜单命令，弹出【线性阵列】属性管理器。根据需要，设置各选项组参数，单击
【确定】按钮，生成特征线性阵列，如图4-24所示。
4.4.2 特征圆周阵列
图4-24 生成特征线性阵列
特征的圆周阵列是将源特征围绕指定的轴线复制多个特征。
1．特征圆周阵列的属性设置
单击【特征】工具栏中的
【圆周阵列】按钮，选择【插入】│【阵列/镜向】│【圆周阵列】菜单命令，弹出【圆周阵列】属性管理器，如图4-25所示。
图4-25 【圆周阵列】属性管理器
● 【阵列轴】：在图形区域选择轴、模型边线或者角度尺寸，作为生成圆周阵列所围绕的轴。
●
【反向】：改变圆周阵列的方向。
●
【角度】：设置每个实例之间的角度。
●
【实例数】：设置源特征的实例数。
● 【等间距】：自动设置总角度为360°。
其他属性设置不再赘述。
2．生成特征圆周阵列的操作方法
（1）选择要进行阵列的特征。
（2）单击【特征】工具栏中的
【圆周阵列】按钮，或者选择【插入】│【阵列/镜向】│【圆周阵列】菜单命令，弹出【圆周阵列】属性管理器。根据需要，设置各选项组参数，单击【确定】按钮，生成特征圆周阵列，如图4-26所示。
图4-26 生成特征圆周阵列
4.4.3 表格驱动的阵列
【表格驱动的阵列】命令可以使用x、y坐标来对指定的源特征进行阵列。使用x、y坐标的孔阵列是【表格驱动的阵列】的常见应用，但也可以由【表格驱动的阵列】使用其他源特征（如凸台等）。
1．表格驱动的阵列的属性设置
选择【插入】│【阵列/镜向】│【表格驱动的阵列】菜单命令，弹出【由表格驱动的阵列】属性管理器，如图4-27所示。
图4-27 【由表格驱动的阵列】属性管理器
（1）【读取文件】：键入含x、y坐标的阵列表或者文字文件。
（2）【参考点】：指定在放置阵列实例时x、y坐标所适用的点。
● 【所选点】：将参考点设置到所选顶点或者草图点。
● 【重心】：将参考点设置到源特征的重心。
（3）【坐标系】：设置用来生成表格阵列的坐标系，包括原点、从【特征管理器设计树】中选择所生成的坐标系。
● 【要复制的实体】：根据多实体零件生成阵列。
● 【要复制的特征】：根据特征生成阵列，可以选择多个特征。
● 【要复制的面】：根据构成特征的面生成阵列，选择图形区域的所有面。
（4）【几何体阵列】：只使用特征的几何体（如面和边线等）生成阵列。
（5）【延伸视象属性】：将SolidWorks的颜色、纹理和装饰螺纹数据延伸到所有阵列实例。
2．生成表格驱动的阵列的操作方法
（1）生成坐标系1。选择要进行阵列的特征。
（2）选择【插入】│【阵列/镜向】│【表格驱动的阵列】菜单命令，弹出【由表格驱动的阵列】属性管理器。根据需要进行设置，单击【确定】按钮，生成表格驱动的阵列，如图4-28所示。
图4-28 生成表格驱动的阵列
4.4.4 草图驱动的阵列
草图驱动的阵列是通过草图中的特征点复制源特征的一种阵列方式。
1．草图驱动的阵列的属性设置
选择【插入】│【阵列/镜向】│【草图驱动的阵列】菜单命令，弹出【由草图驱动的阵列】属性管理器，如图4-29所示。
图4-29 【由草图驱动的阵列】属性管理器
（1）
【参考草图】：在【特征管理器设计树】中选择草图用作阵列。
（2）【参考点】：进行阵列时所需的位置点。
● 【重心】：根据源特征的类型决定重心。
● 【所选点】：在图形区域选择一个点作为参考点。
其他属性设置不再赘述。
2．生成草图驱动的阵列的操作方法
（1）绘制平面草图，草图中的点将成为源特征复制的目标点。
（2）选择要进行阵列的特征。
（3）选择【插入】│【阵列/镜向】│【草图驱动的阵列】菜单命令，弹出【由草图驱动的阵列】属性管理器。根据需要，设置各选项组参数，单击【确定】按钮，生成草图驱动的阵列，如图4-30所示。
图4-30 生成草图驱动的阵列
4.4.5 曲线驱动的阵列
曲线驱动的阵列是通过草图中的平面或者3D曲线复制源特征的一种阵列方式。
1．曲线驱动的阵列的属性设置
选择【插入】│【阵列/镜向】│【曲线驱动的阵列】菜单命令，弹出【曲线驱动的阵列】属性管理器，如图4-31所示。
图4-31 【曲线驱动的阵列】属性管理器
（1）【阵列方向】：选择曲线、边线、草图实体，或者在【特征管理器设计树】中选择草图作为阵列的路径。
（2）【反向】：改变阵列的方向。
（3）
【实例数】：为阵列中源特征的实例数设置数值。
（4）【等间距】：使每个阵列实例之间的距离相等。
（5）【间距】：沿曲线为阵列实例之间的距离设置数值。
（6）【曲线方法】：使用所选择的曲线定义阵列的方向。
● 【转换曲线】：为每个实例保留从所选曲线原点到源特征的距离。
● 【等距曲线】：为每个实例保留从所选曲线原点到源特征的垂直距离。
（7）【对齐方法】：使用所选择的对齐方法将特征进行对齐。
● 【与曲线相切】：对齐所选择的与曲线相切的每个实例。
● 【对齐到源】：对齐每个实例以与源特征的原有对齐匹配。
（8）【面法线】:（仅对于3D曲线）选择3D曲线所处的面以生成曲线驱动的阵列。
其他属性设置不再赘述。
2．生成曲线驱动的阵列的操作方法
（1）绘制曲线草图。
（2）选择要进行阵列的特征。
（3）选择【插入】│【阵列/镜向】│【曲线驱动的阵列】菜单命令，弹出【曲线驱动的阵列】属性管理器，根据需要，设置各选项组参数，单击【确定】按钮，生成曲线驱动的阵列，如图4-32所示。
图4-32 生成曲线驱动的阵列
4.4.6 填充阵列
填充阵列是在限定的实体平面或者草图区域进行的阵列复制。
1．填充阵列的属性设置
选择【插入】│【阵列/镜向】│【填充阵列】菜单命令，弹出【填充阵列】属性管理器，如图4-33所示。
图4-33 【填充阵列】属性管理器
（1）【填充边界】选项组
●
【选择面或共平面上的草图、平面曲线】：定义要使用阵列填充的区域。
（2）【阵列布局】选项组
定义填充边界内实例的布局阵列，可以自定义形状进行阵列或者对特征进行阵列，阵列实例以源特征为中心呈同轴心分布。
①
【穿孔】：为钣金穿孔式阵列生成网格，其参数如图4-34所示。
图4-34 单击【穿孔】按钮
●
【实例间距】：设置实例中心之间的距离。
●
【交错断续角度】：设置各实例行之间的交错断续角度，起始点位于阵列方向所使用的向量处。
●
【边距】：设置填充边界与最远端实例之间的边距，可以将边距的数值设置为零。
●
【阵列方向】：设置方向参考。如果未指定方向参考，系统将使用最合适的参考。
②
【圆周】：生成圆周形阵列，其参数如图4-35所示。
图4-35 单击【圆周】按钮
●
【环间距】：设置实例环间的距离。
● 【目标间距】：设置每个环内实例间距离以填充区域。
● 【每环的实例】：使用实例数（每环）填充区域。
●
【实例间距】：设置每个环内实例中心间的距离。
●
【实例数】：设置每环的实例数。
●
【边距】：设置填充边界与最远端实例之间的边距，可以将边距的数值设置为零。
●
【阵列方向】：设置方向参考。
③
【方形】：生成方形阵列，其参数如图4-36所示。
图4-36 单击【方形】按钮
●
【环间距】：设置实例环间的距离。
● 【目标间距】：设置每个环内实例间距离以填充区域。
● 【每边的实例】：使用实例数填充区域。
● 【实例间距】：设置每个环内实例中心间的距离。
●
【实例数】：设置每个方形各边的实例数。
●
【边距】：设置填充边界与最远端实例之间的边距，可以将边距的数值设置为零。
●
【阵列方向】：设置方向参考。
④
【多边形】：生成多边形阵列，其参数如图4-37所示。
图4-37 单击【多边形】按钮
●
【环间距】：设置实例环间的距离。
●
【多边形边】：设置阵列中的边数。
● 【目标间距】：设置每个环内实例间距离以填充区域。
● 【每边的实例】：使用实例数填充区域。
●
【实例间距】：设置每个环内实例中心间的距离。
●
【实例数】：设置每个多边形每边的实例数。
●
【边距】：设置填充边界与最远端实例之间的边距，可以将边距的数值设置为零。
●
【阵列方向】：设置方向参考。
（3）【要阵列的特征】选项组
● 【所选特征】：选择要阵列的特征。
● 【生成源切】：为要阵列的源特征自定义切除形状。
①
【圆】：生成圆形切割作为源特征，包括如下选项。
【直径】：设置直径。
【顶点或草图点】：将源特征的中心定位在所选顶点或者草图点处，幵生成以该点为起始点的阵列。
②
【方形】：生成方形切割作为源特征，其参数如图4-38所示。
图4-38 单击【方形】按钮
【尺寸】：设置各边的长度。
【顶点或草图点】：将源特征的中心定位在所选顶点或者草图点处，幵生成以该点为起始点的阵列。
【旋转】：逆时针旋转每个实例。
③
【菱形】：生成菱形切割作为源特征，其参数如图4-39所示。
图4-39 单击【菱形】按钮
【尺寸】：设置各边的长度。
【对角】：设置对角线的长度。
【顶点或草图点】：将源特征的中心定位在所选顶点或者草图点处，幵生成以该点为起始点的阵列。
【旋转】：逆时针旋转每个实例。
④
【多边形】：生成多边形切割作为源特征，其参数如图4-40所示。
图4-40 单击【多边形】按钮
【多边形边】：设置边数。
【外径】：根据外径设置阵列大小。
【内径】：根据内径设置阵列大小。
【顶点或草图点】：将源特征的中心定位在所选顶点或者草图点处，幵生成以该点为起始点的阵列。
【旋转】：逆时针旋转每个实例。
【反转形状方向】：围绕在填充边界中所选择的面反转源特征的方向。
2．生成填充阵列的操作方法
（1）绘制平面草图。
（2）选择【插入】│【阵列/镜向】│【填充阵列】菜单命令，弹出【填充阵列】属性管理器，根据需要，设置各选项组参数，单击【确定】按钮，生成填充阵列，如图4-41所示。
图4-41 生成填充阵列