2.3 MOS场效应晶体管(MOSFET)
2.3.1 MOSFET的特点
电力MOS场效应晶体管简称电力MOSFET(P-MOSFET),是一种单极型电压控制半导体器件,其特点是栅极静态内阻极高(109Ω)、驱动功率很小、开关速度高、无二次击穿、安全工作区宽等。开关频率可高达500kHz,特别适合高频化的电力电子装置,但由于MOSFET电流容量小、耐压低,一般只适用小功率的电力电子装置。
2.3.2 MOSFET的结构与工作原理
1.MOSFET的结构
MOSFET的类型很多,按导电沟道可分为P沟道和N沟道。图2-15给出了具有垂直导电双扩散(VD)MOS结构的VD-MOSFET(Vertical Double-diffused MOSFET)单元的结构图及电路图形符号。一个MOSFET实际上是由许多小单元并联组成。
2.MOSFET的工作原理
如图2-15所示,MOSFET的3个极分别为栅极G、漏极D和源极S。当漏极接正电源,源极接负电源,栅源极间的电压为零时,P基区与N区之间的PN结反偏,漏源极之间无电流通过。如在栅源极间加一正电压UGS,则栅极上的正电压将其下面的P基区中的空穴推开,而将电子吸引到栅极下的P基区的表面,当UGS大于开启电压UGS(th)时,栅极下P基区表面的电子浓度将超过空穴浓度,从而使P型半导体反型成N型半导体,成为反型层,由反型层构成的N沟道使PN结消失,漏极和源极间开始导电。UGS数值越大,P-MOSFET导电能力越强,ID也就越大。
图2-15 MOSFET的结构及电路图形符号
a)结构 b)图形符号(N沟道) c)图形符号(P沟道)
2.3.3 MOSFET工作特性
1.静态特性
(1)漏极伏安特性。漏极伏安特性也称为输出特性,如图2-16所示,可以分为3个区:可调电阻区Ⅰ、饱和区Ⅱ、击穿区Ⅲ。在Ⅰ区内,固定栅源电压UGS,漏源电压UDS从零上升过程中,漏极电流ID首先线性增长,接近饱和区时,ID变化减缓,而后开始进入饱和。达到饱和区Ⅱ后,此后虽UDS增大,但ID维持恒定。从这个区域中曲线可以看出,在同样的漏源电压UDS下,UGS越高,漏极电流ID也越大。当UDS过大时,器件会出现击穿现象,进入击穿区Ⅲ。
(2)转移特性。P-MOSFET是多数载流子器件,不存在少数载流子特有的存储效应,因此开关时间很短,漏极电流ID与栅源极电压UGS反映了输入电压和输出电流的关系,称为转移特性,如图2-17所示。当ID较大时,该特性基本上为线性。曲线的斜率gm=ΔID/ΔUGS称为跨导,表示P-MOSFET栅源电压对漏极电流的控制能力,与BJT的电流增益相似,会出现导电沟道,产生栅极电流ID。
图2-16 漏极伏安特性
图2-17 转移特性
2.开关特性
开关时间典型值为20ns,而影响开关速度的主要是器件极间电容,图2-18为器件极间电容的等效电路,从中可以求得器件输入电容为Cin=CGS+CGD。正是Cin在开关过程中需要进行充、放电,影响了开关速度。
P-MOSFET的开关过程如图2-19所示,其中UP为驱动电压信号,UGS为栅极电压,ID为漏极电流。当UP信号到来时,输入电容Cin有一充电过程,使栅极电压UGS只能按指数规律上升。当UGS达到开启电压UGS(th)时,开始形成导电沟道,出现漏极电流ID,这段时间td(on)为开通延迟时间。此后ID随UGS上升,直至接近饱和区,漏极电流从零上升至此所需时间tr为上升时间。这样,P-MOSFET的开通时间为ton=td(on)+tr。当UP信号下降为零后,栅极输入电容Cin上储存的电荷将通过信号源进行放电,使栅极电压UGS按指数下降,到UP结束后的td(off)时刻,ID电流才开始减小,故td(off)称为关断延迟时间。以后Cin继续放电,UGS继续下降,ID亦继续下降。到UGS<UGS(th)时,导电沟道消失,ID=0。漏极电流从稳定值下降到零所需时间tf称为下降时间,这样P-MOSFET的关断时间应为toff=td(off)+tf。从以上分析看出,要提高器件开关速度,需要减小td(on)、tr、td(off)、tf、,在器件极间电容已存在的条件下,需要减小栅极驱动电源内阻,以提高Cin的充、放电速度,同时驱动电路还要能向栅极输入电容Cin提供足够的充、放电功率。
图2-18 输入电容等效电路
图2-19 开关特性
2.3.4 主要参数与安全工作区
1.主要参数
(1)漏极电压UDS。漏极电压UDS为P-MOSFET的电压定额。
(2)电流定额ID。电流定额ID为漏极直流电流,IDM为漏极脉冲电流幅值。
(3)栅源电压UGS。栅源间加的电压不能大于此电压,否则将击穿器件。
2.安全工作区
P-MOSFET是多数载流子工作的器件,器件的通态电阻具有正的温度系数,即温度升高,通态电阻增大,使漏极电流能随温度升高而下降,因而不存在电流集中和二次击穿的限制,有较宽的安全工作区。P-MOSFET的正向偏置安全工作区由四条边界包围框成,如图2-20所示。其中Ⅰ为漏源通态电阻限制线;Ⅱ为最大漏极电流IDM限制线;Ⅲ为最大功耗限制线;Ⅳ为最大漏源电压限制线。
图2-20 P-MOSFET正向 偏置安全工作区