1.3 研磨与模具的抛光

以上简要介绍了磨抛的基本概念，而本书中自主磨抛系统中的“磨抛”是指研磨与抛光。研磨与抛光是以降低零件表面粗糙度，提高表面形状精度和增加表面光泽为主要目的，属光整加工，可归为磨抛工艺大类。研磨与抛光在工作成型理论上很相似，一般用于产品、零件的最终加工。

现代模具成形表面的精度和表面粗糙度要求越来越高，对一些高精度、高寿命的模具要求甚至达到微米级精度。一般磨抛表面不可避免地会留下磨痕、微裂纹等缺陷，这些缺陷对一些模具的精度影响很大，其成形表面一部分可采用超精密磨抛加工达到设计要求，但大多数异型和高精度表面要进行研磨与抛光加工。